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電子束蒸鍍設備 E-beam Evaporation System
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電子束蒸鍍設備 E-beam Evaporation System

電子束蒸鍍設備 E-beam Evaporation System
電子束蒸發與熱蒸發對比, 能夠在非常高的溫度下熔化材料, 如鎢, 石墨 ... 等等. 結合石英震蕩片的反饋信號, 可輕松控制蒸發速率, 以調節電子束電流并蒸發更多材料而不會破壞真空. 因此, 電子束蒸發用于薄膜制程領域, 包括半導體, 光學, 太陽能電池板, 玻璃和建筑玻璃, 因此它們具有所需的導電, 反射, 透射和電子等特性. 上海伯東代理電子束蒸鍍設備可以控制蒸發速率, 特殊的系統設計電子束沉積是一種實用且高度可靠的系統. 上海伯東代理電子束蒸鍍設備可針對量產使用單一大坩堝也可以有多個坩堝來達到產品多層膜結構, 在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計, 單片和多片公自轉的設計, 薄膜厚度和均勻度小于 +/- 3%.

上海伯東電子束蒸鍍設備配置和優點
客制化的基板尺寸, 最大直徑可達12寸晶圓
單載片或多載片 (2” x 32個,4” x 16個,6” x 6個,8” x 4個)
優異的薄膜均勻度小于±3%
具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉電子束源(1/2/4/6坩堝)
自動鍍膜系統
具有順序操作或共沉積的多個電子束源
基板具有冷卻(液態氮溫度低至-70°C)或加熱(溫度最高800°C)等功能

為了獲得最大的制程靈活性, 提供美國 KRI 離子源以進行離子輔助沉積或者預清潔等功能.

若您需要進一步的了解上海伯東電子束蒸鍍設備, 請參考以下聯絡方式
上海伯東: 葉小姐                                   臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                            F: +886-3-567-0049
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現部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯絡上海伯東 葉小姐 1391-883-7267
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