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射頻離子源 RFICP 380
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射頻離子源 RFICP 380

大口徑射頻離子源 RFICP 380
上海伯東美國 KRi 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層柵極設計, 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬束離子束, 最大離子束流 > 1000mA, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應用.

KRi 射頻離子源 RFICP 380 特性
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術提供高密度離子, 工藝時間更長. 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
2. 離子源結構模塊化設計
3. 離子光學, 自對準技術, 準直光束設計, 自動調節技術保障柵極的使用壽命和可重復的工藝運行
4. 全自動控制器
5. 離子束動能 100-1200eV
6. 柵極口徑 38cm, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應用
射頻離子源
-------------- 離子源自動控制器 --------------   -------- 射頻離子源 RFICP 380 本體 ----

射頻離子源 RFICP 380 技術規格:

陽極

電感耦合等離子體
2kW & 1.8 MHz
射頻自動匹配

最大陽極功率

>1kW

最大離子束流

> 1000mA

電壓范圍

100-1500V

離子束動能

100-1200eV

氣體

Ar, O2, N2,其他

流量

5-50sccm

壓力

< 0.5mTorr

離子光學, 自對準

OptiBeamTM

離子束柵極

38cm Φ

柵極材質

鉬或石墨

離子束流形狀

平行,聚焦,散射

中和器

LFN 2000

高度

38.1 cm

直徑

58.2 cm

鎖緊安裝法蘭

12”CF


射頻離子源 RFICP 380 尺寸:
射頻離子源尺寸

上海伯東美國考夫曼 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 220, RFICP 380 成功應用于 12英寸和 8英寸磁存儲器刻蝕機, 8英寸量產型金屬刻蝕機中, 實現 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蝕工藝, 適用于 IC, 微電子,光電子, MEMS 等領域.

作為蝕刻機的核心部件, KRI  射頻離子源提供大尺寸, 高能量, 低濃度的離子束, 接受客戶定制, 單次工藝時間更長, 滿足各種材料刻蝕需求!
射頻離子源 RFICP 380

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上海伯東: 葉小姐                                   臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161
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現部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯絡上海伯東 葉小姐 1391-883-7267
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